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硅片 |
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产品 >> 硅片 >> 所有小类 |
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产品编号: |
SOW06 |
产品名称: |
氧化硅片 |
规 格: |
6“,8“ |
产品备注: |
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产品类别: |
硅片 |
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产 品 说 明 |
氧化硅片
氧化硅片是指在硅片表面热生长一层均匀的介质薄膜,用作绝缘、或者掩模材料。氧化工艺包括高温干氧氧化、高温湿氧氧化。公司采用进口先进氧化设备、工艺实现氧化层均匀、准确的生成。
尺寸:2", 4", 6", 8", 10", 12"
N型/ P型、本征(不掺杂)
总厚度: 250 ~ 600 μm 可定制
厚度误差: ±10μm
氧化层厚度: 50nm ~ 2000nm(常规100nm,200nm,300nm,500nm,1000nm)
平整度(TIR): < 3 μm
翘曲度(BOW): ≤15μm
TTV: ≤15μm,30μm
粗糙度: < 0.5nm
电阻率: : 0.001~ 20000 (Ω·cm) 按客户要求
晶向:〈100〉;〈110〉;〈111〉
级别: P级
表面处理:单抛,双抛
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点击数:70 录入时间:2024-08-05 【打印此页】 【关闭】 |
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